被垄断的何止光刻机离子注入机也受制于人国产有望替代进口

在芯片制造过程中,光刻机作为主要的核心设备,重要性不言而喻。虽然我们能够生产光刻机,但所生产出的光刻机仅仅是低端光刻机,而在高端光刻机上,我国却面临着被外企垄断的局面。 然而中国除...

日期: 2022-08-09 16:55

  在芯片制造过程中,光刻机作为主要的核心设备,重要性不言而喻。虽然我们能够生产光刻机,但所生产出的光刻机仅仅是低端光刻机,而在高端光刻机上,我国却面临着被外企垄断的局面。

  然而中国除了在高端光刻机被外企垄断外,在晶圆制造所需的七大类生产设备中——离子注入机,中国同样受制于外企。

  在设备工作时,从离子源引出的离子经过磁分析选择出需要的离子,经过分析的离子经过加减速改变离子能量,再经过两维偏转扫描器使离子束均匀的注入到材料表面,最后经过调节注入离子能量。

  据SEMI统计,早在2018年,全球晶圆加工设备市场规模就已经达到502亿美元。据中商业研究院统计,离子注入机占晶圆加工设备比重约为5%,因此在2018年用于晶圆制造的离子注入机在全球的市场中就达到25亿美元。

  目前,全球离子注入机企业主要集中在中国、日本、美国等少数几个国家中,其中美国几乎垄断了全球的离子注入机市场。

  据前瞻产业研究院统计,美国在全球半导体制造离子注入机市场中,应用材料公司占据约70%的份额,而Axcelis则占据20%的份额。在离子注入机市场中,呈现出巨头垄断的格局。

  据浦东投资统计,离子注入机市场中最重要的低能大束流离子注入机被应用材料、Axcelis和汉辰科技AIBT共同占据了约97%左右的市场份额。

  当前,我国在芯片制造领域中,处于爆发期,因此无论是从机遇上还是从需求上,我国都需要大力发展离子注入机,在此背景下,我国先后在政策、资金等方面对离子注入机相关企业提供了众多的支持。

  早在2008年我国便出台了“02专项”实现国产半导体设备从零到一的突破。

  此后政府又先后出台了《国家集成电路产业发展推进纲要》、《鼓励集成电路产业发展企业所得税政策》等政策,这其中在某些政策中,对半导体设备尤其是离子注入机相关设备提出了明确的发展目标。

  目前,大基金已经完成一期投资,在一期投资里,大基金专注的主要方向是晶圆代工领域。当前,国内半导体设备在300mm晶圆和28nm工艺上已经具备全球竞争水平。

  接下来随着14nm工艺设备完成验证,国内半导体设备制造商有望进行新一轮晶圆制造投资。

  目前,大基金二期投资公司已经成立,注册资本超2000亿元,这次投资公司的成立,必将在未来继续带动国内半导体设备及离子注入机设备的发展。

  在国内政策支持以及良好的市场环境下,我国涌现出了一批优秀的离子注入机相关企业,如中科电子、凯时通等企业。其中,以中科电子表现尤为突出。

  在今年3月,中国电子科技集团有限公司宣布其下属装备子集团成功实现了离子注入机全谱系产品国产化,可以为国内外芯片制造企业提供离子注入一站式解决方案。

  其实,中科电子在完成离子注入机全谱系产品国产化之前,中科电子就已经在离子注入机方面取得过辉煌的成就。例如:在2014年,中科电子装备的12英寸中束流离子注入机就以优秀等级通过了国家02专项实施管理办公室组织的验收。

  在2017年,中科电子装备的中束流离子注入机已经成功帮助中芯国际实现了稳定流片200万片。而在2017年第三季度,中芯国际的实际产能才44.8万片,这意味着中科装备的中束流离子注入机已经可以满足国内部分芯片产能。

  如今,除了中科电子取得了离子注入机全谱系产品国产化等成就外。在6月29日,万业企业旗下凯时通超越7nm技术的离子注入平台,目前应用于逻辑芯片制程。

  而此前凯世通所自主研制出的工艺覆盖至28纳米的离子注入机,目前正在国内芯片生产线上使用。随着时间的推移,相信不久后,国内自主研发生产的离子注入机也将会完全替代国外离子注入机。返回搜狐,查看更多

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